Китайская компания Semiconductor Manufacturing International Corp. использовала оборудование голландской ASML для производства чипов 7 нм. При этом, по информации Bloomberg, SMIC не получила доступ к передовому EUV-оборудованию, а модифицировала старое оборудование для DUV-литографии. Тем не менее, новый чип, попавший в смартфон Huawei Mate 60 Pro, «насторожил США», которые объявили о введении новых санкций.

Американские власти совместно с Японией и Нидерландами много лет пытаются перекрыть Китаю доступ к передовым полупроводниковым технологиям. Несмотря на ограничения, Huawei в конце августа выпустила смартфон Mate 60 Pro с 5G и 7 нм процессором HiSilicon Kirin 9000S. Компания TechInsights разобрала смартфон и выяснила, что чип внутри него разработала SMIC, продемонстрировав производственные возможности, выходящие за рамки санкций США.

Как утверждают источники Bloomberg, для изготовления чипа SMIC использовала модифицированное оборудование для фотолитографии в глубоком ультрафиолете (Deep ultraviolet lithography, DUV), выпущенное голландской компанией ASML, а также инструменты других компаний.

ASML доминирует на рынке производства оборудования для фотолитографии. Её новейшие системы фотолитографии в сверхжёстком ультрафиолете (Extreme ultraviolet lithography, EUV) играют ключевую роль в производстве самых передовых чипов. Из-за экспортных ограничений у ASML нет права продавать EUV-машины в Китай, однако источники издания предполагают, что китайские предприятия модернизируют старые DUV-модели для производства 7-нанометровых и, возможно, даже более совершенных чипов.

Это очень дорогой процесс, намного затратнее, чем использование EUV-оборудования, однако китайское правительство берёт на себя значительную часть затрат компаний на производство чипов. Из-за этого китайские производители чипов стараются накапливать запасы DUV-оборудования, особенно после того, как к санкциям США присоединились Япония и Нидерланды.

Давление со стороны США подтолкнуло правительство Нидерландов прошлым летом объявить о планах запретить компании ASML поставлять в Китай часть своего DUV-оборудования без специальной лицензии. Пока ASML ещё может экспортировать эту продукцию в Китай, но с января поставки будут запрещены.

В октябре власти США ещё больше ужесточили экспорт DUV-оборудования, введя одностороннее право de minimis, предполагающее контроль продажи опредёленных литографических машин иностранного производства, содержащих любое количество американских материалов. На прошлой неделе генеральный директор ASML Питер Веннинк сообщил инвесторам, что новые санкции США и Нидерландов вместе срежут продажи компании в Китае на 15%.